Просмотр статьи


Номер журнала: 2015.3

Заголовок статьи: Исследование электрофизических параметров тонких плёнок нитрида титана, полученных методом магнетронного распыления

Резюме

Плёнки нитрида титана известны уже давно, но они не теряют своей актуальности, и обнаруживаются новые сферы их применения. Со временем совершенствуются способы получения плёнок для достижения наилучших характеристик. Для получения тонких плёнок TiN широко применяется метод магнетронного распыления, который характеризуется рядом технологических параметров.
В данной статье представлены результаты исследования влияния мощности разряда и потока азота в парогазовой смеси Ar+N2 на удельное электрическое сопротивление и скорость роста плёнок нитрида титана, полученных методом реактивного магнетронного распыления. Также рассмотрено влияние температурной обработки на деградацию удельного электрического сопротивления и изменение элементного состава полученных плёнок.

Авторы

Е.В. Ерофеев, И.В. Федин, А.И. Казимиров

Библиография

1. NadiaSaoula, KarimHendaetRafikaKesri. Influence of nitrogen content on the structural and mechanical properties of tin thin films //j. Plasma fusion res. Series. 2009V. 8, P. 1403-1407.
2. Li-Jian Meng, M.P. Santos. Characterization of titanium nitride falmsprepared by d.c. reactive magnetron sputtering at dufferent nitrogen pressures // Surface and Coatings Technology. 1997 V. 90, P. 64-70.
3. Громов Д.Г. Металлизация в системах с наноразмерными элементами: учеб.пособие для студентов техвузов. М.: МИЭТ; Москва: АСТ, 2011. 60с.
4. Az. Ahaitouf, J. C. Gerbedoen, A. Soltani Process Technology study of-TiN/AlGaN/GaNSchottky contact on (111) Silicon substrate // J. Mater.Environ. Sci. 2010. V 1, P. 309-312.
5. Hong Tak Kim, Chan Su Chae, DaeHee Han and Duck Kyu Park. Effectof Substrate Tempera-ture and Input Power on TiN Film Deposition by LowFrequency(60 Hz) PECVD // Journal of the Korean Physical Society. 2000 V. 37,№ 3. P. 319-323.
6. Cпособ реактивного ионного травления слоя нитрида титана селективно к алюминию и двуокиси кремния[Электронный ресурс].
URL:http://www.freepatent.ru/patents/2392689 (дата обращения: 14.02.2015)
7. Способ получения однофазных пленок нитрида титана ⌈Электронный ресурс⌉.
URL:http://www.findpatent.ru/patent/249/2497977.html (дата обращения: 23.02.2015)
8. Нитрид титана⌈Электронный ресурс⌉.
URL:https://ru.wikipedia.org/wiki/Нитрид_титана (дата обращения: 15.02.2015)
9. F. Vaza, J. Ferreiraa, E. Ribeiroa, L. Reboutaa, S. Lanceros-Mendeza, J.A. Mendesa, E. Alvesb, Ph. Goudeauc, J.P. Rivie‘rec, F. Ribeirod, I. Moutinhod, K. Pischowe, J. de Rij. Influence of Nitrogen Content on the Structural and Mechanical Properties of TiN Thin Films // Surface & Coatings Technology. 2005. V. 191, P. 317–323.

Ключевые слова

Тонкие плёнки, нитрид титана, магнетронное распыление, удельное электрическое сопротивление, скорость роста, поток азота, мощность разряда, термическая стабильность, элементный состав.

Скачать полный текст