Preview

Вестник СибГУТИ

Расширенный поиск

Влияние ионного заряда диэлектрика на его электронную проводимость в многослойной структуре с неоднородной блокирующей границей.

Аннотация

Представлены результаты исследований влияния положительного подвижного заряда на электронную проводимость окисла на поликристаллическом кремнии.

Об авторе

Г. В. Перов
СибГУТИ
Россия


Список литературы

1. Han Sheng Lee. High electric feild generaited electron traps in oxide grown from policristalline silicon// Appl.Phys.Lett.-1980.-v.37. №12.-p.1080-1082.

2. Groesneken G., Maes H.E. A quantation model for the conductionnin oxides thermally grown policristalline silicon// IEEE Trans.on El. Dev.-1986.-v.ED-33, №.7-p.1028-1042.

3. Сальман Е.Г., Вертопрахов В.Н., Данилович. В.С. Изучение процессов образования и переноса заряда в слоях двуокиси кремния на кремнии. / ЦИОНТ ПИК.-Деп. В ВИНИТИ.: №558-76.-Новосибирск, 1975.-с.21.

4. Salman E.G.,Vertoprachov V.N. Thermally stimulated depolarisation current cjntrolled by surface charge change // Phys.Stat.Sol (a).-1988.-v.1008. №2.-p.625-630


Рецензия

Для цитирования:


Перов Г.В. Влияние ионного заряда диэлектрика на его электронную проводимость в многослойной структуре с неоднородной блокирующей границей. Вестник СибГУТИ. 2008;(1):31-33.

Просмотров: 110


Creative Commons License
Контент доступен под лицензией Creative Commons Attribution 4.0 License.


ISSN 1998-6920 (Print)