Влияние ионного заряда диэлектрика на его электронную проводимость в многослойной структуре с неоднородной блокирующей границей.
Аннотация
Список литературы
1. Han Sheng Lee. High electric feild generaited electron traps in oxide grown from policristalline silicon// Appl.Phys.Lett.-1980.-v.37. №12.-p.1080-1082.
2. Groesneken G., Maes H.E. A quantation model for the conductionnin oxides thermally grown policristalline silicon// IEEE Trans.on El. Dev.-1986.-v.ED-33, №.7-p.1028-1042.
3. Сальман Е.Г., Вертопрахов В.Н., Данилович. В.С. Изучение процессов образования и переноса заряда в слоях двуокиси кремния на кремнии. / ЦИОНТ ПИК.-Деп. В ВИНИТИ.: №558-76.-Новосибирск, 1975.-с.21.
4. Salman E.G.,Vertoprachov V.N. Thermally stimulated depolarisation current cjntrolled by surface charge change // Phys.Stat.Sol (a).-1988.-v.1008. №2.-p.625-630
Рецензия
Для цитирования:
Перов Г.В. Влияние ионного заряда диэлектрика на его электронную проводимость в многослойной структуре с неоднородной блокирующей границей. Вестник СибГУТИ. 2008;(1):31-33.