Investigation of electrical properties of TiN thin films obtained by DC magnetron sputtering
Abstract
Effects of power density and nitrogen flow on the electrical resistivity, thermal stability and growing rate of TiN films obtained by magnetron sputtering are presented in this paper. The effect of temperature treatment on the degradation of specific electrical resistance and the change in the elemental composition of the films are also considered.
About the Authors
E. V. Erofeev
НПК «Микроэлектроника» ЗАО НПФ «Микран»
Russian Federation
Russian Federation
I. V. Fedin
ТУСУР; НПК «Микроэлектроника» ЗАО НПФ «Микран»
Russian Federation
Russian Federation
A. I. Kazimirov
ТУСУР; НПК «Микроэлектроника» ЗАО НПФ «Микран»
Russian Federation
Russian Federation
References
1. Nadia Saoula, Karim Henda et Rafika Kesri. Influence of nitrogen content on the structural and mechanical properties of tin thin films // j. Plasma fusion res. Series. 2009 V. 8, P. 1403-1407.
2. Li-Jian Meng, M.P. Santos. Characterization of titanium nitride falms prepared by d.c. reactive magnetron sputtering at dufferent nitrogen pressures // Surface and Coatings Technology. 1997 V. 90, P. 64-70.
3. Громов Д.Г. Металлизация в системах с наноразмерными элементами: учеб. пособие для студентов техвузов. М.: МИЭТ; Москва: АСТ, 2011. 60 с.
4. Az. Ahaitouf, J. C. Gerbedoen, A. Soltani Process Technology study of TiN/AlGaN/GaN Schottky contact on (111) Silicon substrate // J. Mater. Environ. Sci. 2010. V 1, P. 309-312.
5. Hong Tak Kim, Chan Su Chae, Dae Hee Han and Duck Kyu Park. Effect of Substrate Temperature and Input Power on TiN Film Deposition by LowFrequency (60 Hz) PECVD // Journal of the Korean Physical Society. 2000 V. 37, № 3. P. 319-323.
6. Способ реактивного ионного травления слоя нитрида титана селективно к алюминию и двуокиси кремния [Электронный ресурс]. URL: http://www.freepatent.ru/patents/2 3 92 68 9 (дата обращения: 14.02.2015)
7. Способ получения однофазных пленок нитрида титана [Электронный ресурс]. URL: http://www.findpatent.ru/patent/2 4 9/2 4 97 977.html (дата обращения: 23.02.2015)
8. Нитрид титана [Электронный ресурс]. URL: https://ru.wikipedia.org/wiki/Нитрид титана (дата обращения: 15.02.2015)
9. F. Vaza, J. Ferreiraa, E. Ribeiroa, L. Reboutaa, S. Lanceros-Mendeza, J.A. Mendesa, E. Alvesb, Ph. Goudeauc, J.P. Rivie ‘rec, F. Ribeirod, I. Moutinhod, K. Pischowe, J. de Rij. Influence of Nitrogen Content on the Structural and Mechanical Properties of TiN Thin Films // Surface & Coatings Technology. 2005. V. 191, P. 317-323.
Review
For citations:
Erofeev E.V., Fedin I.V., Kazimirov A.I. Investigation of electrical properties of TiN thin films obtained by DC magnetron sputtering. The Herald of the Siberian State University of Telecommunications and Information Science. 2015;(3):29-34. (In Russ.)
Views:
252
Email this article 
